پیوندهای مفید
اخبار و اعلانات
آمار
| تعداد نشریات | 161 |
| تعداد شماره‌ها | 6,532 |
| تعداد مقالات | 70,500 |
| تعداد مشاهده مقاله | 124,085,075 |
| تعداد دریافت فایل اصل مقاله | 97,189,109 |
مکانیزم احیاء کلرور مس از الکترولیت ان بوتیل آمین در نفتالین مذاب | ||
| نشریه دانشکده فنی | ||
| مقاله 11، دوره 35، شماره 3 - شماره پیاپی 1130، آذر 1380 اصل مقاله (904.88 K) | ||
| نویسندگان | ||
| سید خطیب الاسلام صدر نژاد؛ افروز برنوش؛ محمد قربانی* | ||
| چکیده | ||
| حلالهای آروماتیک حاوی نمکهای ان بوتیل آمین دارای پایداری ترموشیمیایی کافی،پتانسیل پلاریزاسیون گسترده،نقطه جوش بالا و ضریب دی الکتریک قابل قبول برای پوشش دادن الکترولیتی یونهای فلزی فعال هستند. در این مقاله سینتیک جوانه زنی و رشد رسوب لایه نازک فلزی از کمپلکس ان بوتیل آمین حاوی فلز مس در محلول پایه نفتالین به شیوه ولتامتری چرخه ای ، کرنوآمپرمتری و بیناب نگاری امپدانس الکتروشیمیایی بررسی شده است. نتایج بدست آمده نشانگر تبلور الکتروشیمیایی سه بعدی به شکل جوانه زنی لحظه ای همراه با رشد تحت کنترل نفوذ کریستالهای مس است .نتایج نشان دهنده برگشت ناپذیر بودن واکنش با ثابت سرعت استاندارد cm/s3-10×6-2 و ضریب نفوذ مس در محلول الکترولیت آروماتیک در محدوده cm2/s6-10×6-3 است . بنظر می رسد مقادیر نسبتاً کوچک سرعت واکنش و ضریب نفوذ، متأثر از کمپلکس شدن یون مس موجود در محلول آلی با لیگاندهای حجیم (ان بوتیل آمین) باشد. | ||
| کلیدواژه‌ها | ||
| آروماتیک؛ رسوب الکترولیتی؛ سینتیک؛ لایه نازک؛ مس؛ نفتالین | ||
| عنوان مقاله [English] | ||
| - | ||
| چکیده [English] | ||
| Aromatic solutions containing NButylamine salts have sufficient then110chemical stability, wide polarization potential, high boiling point and acceptable dielectric coefficient suitable for electrolytic coating of the active metallic ions. In this study, nucleation/growth kinetics of thin metallic layers precipitated from copper containing N-Butylamine complexes dissolved in naphthalene is investigated via cyclic voltammetry, chronoamperometry and electrochemical impedance frequency response method. Results indicate _ an instantaneous three-dimensional electrochemical crystallization of copper concomitant with a diffusion-controlled growth regime. The diffusion coefficient of copper containing complex and the standard rate constant of the reaction are calculated from the data, which appear to be in the range of 3-6 x 10-6 cm2/s and 2-6 × 10-3 cm/s., respectively. The relatively small reaction as well as diffusion rates seem to be due to the complexion of copper ions with large aromatic legends. | ||
|
آمار تعداد مشاهده مقاله: 1,550 تعداد دریافت فایل اصل مقاله: 834 |
||